TFT液晶显示屏的优缺点是什么

TFT技术是在20世纪90年代发展起来的。采用新材料和新工艺的大规模半导体集成电路制造技术是液晶、无机和有机薄膜电致发光(EL和OEL)平板显示器的基础。TFT是通过溅射和化学沉积工艺在玻璃或塑料基板等非单晶片上(当然也可以在晶片上)形成制造电路所需的各种薄膜，通过加工薄膜制造大规模半导体集成电路(LSIC)。非单晶衬底的使用可以大大降低成本，是传统大规模集成电路向大面积、多功能、低成本方向的延伸。在大面积玻璃或塑料基板上制造TFT来控制像素(LC或有机发光二极管)的开关性能，比在硅片上制造大规模ic更困难。对生产环境(净化等级100)、原料纯度(电子专用气体纯度99.99985%)的要求，对生产设备和生产工艺的要求都超过了半导体大规模集成的要求，是jbo竞博大规模生产的顶尖技术。

 TFT液晶显示屏大面积:90年代初，第一代大面积玻璃基板(300mm×400mm)TFT-LCD生产线投产。到2000年上半年，玻璃基板面积扩大到680mm×880mm，近950mm×1200mm玻璃基板也将投产。

TFT液晶显示屏高集成度:用于液晶投影的1.3英寸TFT芯片分辨率为百万像素XGA。分辨率SXGA(1280×1024)的TFT阵列16.1英寸非晶硅薄膜厚度只有50nm，TABONGLASS和SYSTEMONGLASS的技术及其IC集成度、对设备和供应工艺的要求、技术难度都高于传统LSI。

TFT液晶显示屏功能强大:TFT作为矩阵寻址电路，提高了液晶的光阀特性。对于高分辨率显示器，通过在0-6V范围内(其典型值为0.2-4V)调节电压来实现对像素的精确控制，使得LCD实现高质量、高分辨率的显示成为可能。

 TFT液晶显示屏成本低:玻璃基板和塑料基板从根本上解决了大规模半导体集成电路的成本问题，为大规模半导体集成电路的应用开辟了广阔的应用空间。

TFT液晶显示屏工艺灵活:除了溅射、CVD(化学气相沉积)、MCVD(分子化学气相沉积)等传统工艺外，激光退火技术也开始应用，可以制作非晶薄膜、多晶薄膜和单晶薄膜。不仅可以制作硅膜，还可以制作其他II-VI和III-V半导体膜。

TFT液晶显示屏应用领域广。基于TFT技术的液晶平板显示器是信息社会的支柱产业，该技术也可以应用于快速发展的TFT-有机发光二极管平板显示器。